自闭症谱系障碍（ASD）是一种常见的神经发育障碍，与其有关的遗传因素，由表观遗传学决定。表观遗传学通过对DNA或染色体进行基因修饰，在不改变DNA序列的情况下对基因表达进行调控。ASD患者的某些基因改变影响了大脑神经回路的发育，从而损害了某些学习能力。本期封面文章，美国研究人员使用一种名叫“微分富集扫描（DEScan）”的技术，通过小鼠研究发现了与ASD有关的表观遗传性基因修饰来源，并证明这一新技术可以广泛用来研究与学习障碍有关的遗传因素。